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宜兴座谈会



                         2020 年 7 月,学会围绕“如何突破光刻技术难题”召开专家座

                   谈会。座谈会采用现场和视频同步方式召开。中国科学院院士杨万泰、

                   佟振合、彭孝军、吴骊珠,中国工程院院士许祖彦、罗先刚、刘文清,
                   相关部委领导以及科研院所、高校和行业企业专家代表共 60 余人出

                   席了座谈会。座谈会旨在如何突破我国光刻技术这个“卡脖子”技术

                   难题进行座谈研讨,就我国光刻技术研究进展、分析难点与挑战、提

                   出技术与政策建议,为我国光刻技术跨越发展,解决微电子制造的“卡

                   脖子”技术难题建言献策。
































                                             “如何突破光刻技术难题”座谈会
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