宜兴座谈会
2020 年 7 月,学会围绕“如何突破光刻技术难题”召开专家座
谈会。座谈会采用现场和视频同步方式召开。中国科学院院士杨万泰、
佟振合、彭孝军、吴骊珠,中国工程院院士许祖彦、罗先刚、刘文清,
相关部委领导以及科研院所、高校和行业企业专家代表共 60 余人出
席了座谈会。座谈会旨在如何突破我国光刻技术这个“卡脖子”技术
难题进行座谈研讨,就我国光刻技术研究进展、分析难点与挑战、提
出技术与政策建议,为我国光刻技术跨越发展,解决微电子制造的“卡
脖子”技术难题建言献策。
“如何突破光刻技术难题”座谈会